P04700 - SEMI P47 - ラインエッジラフネス（Line Edge Roughness）およびライン幅ラフネス（Line Width Roughness）測定の試験方法 StdPbc-0218 orgで入手可能となる。前版は2012年4月発行。

orgで入手可能となる。前版は2012年4月発行。

26-84 (first published)

The successor format was chartered with several overall goals:

This Document defines terminology for FPD masks

P04700 - SEMI P47 - ラインエッジラフネス（Line Edge Roughness）およびライン幅ラフネス（Line Width Roughness）測定の試験方法 StdPbc-0218 orgで入手可能となる。前版は2012年4月発行。global Microlithography Committee20061121global Audits and Reviews Subcommittee20072www. semi. org20073CD ROM IC Referenced SEMI Standards SEMI P19 Specification for Metrology Pattern Cells for Integrated Circuit Manufacture SEMI P35 Terminology for Microlithography Metrology SEMI P36 Guideline of Magnification Reference for Critical Dimension Measurement Scanning Electron Microscopes